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저압 플라즈마 시스템 오로라 스탠다드

Aurora Standard 장치는 복잡한 부품의 세척 및 활성화를 위해 설계되었습니다. 완벽한 1차 플라즈마 침지 및 고유한 측면 벽 전극을 통해 여러 선반과 대형 부품을 균일하고 안전하게 처리할 수 있습니다.

시스템 표면 처리 공정은 주로 전자 및 의료 기기 가공에 사용됩니다. PLC 제어는 중요한 공정 제어 및 모니터링을 보장합니다. 공정 레시피 저장소와 함께 사용하면 R&D 실험실뿐만 아니라 산업 시리즈 생산에 다용도로 사용할 수 있습니다.

터치스크린 디스플레이가 있는 오로라 스탠다드 시스템
오로라 스탠다드 시스템의 플라즈마 챔버 내부 모습

MAIN
특징  

오로라 표준 시스템용

  • 복잡한 부품의 균일한 처리를 위한 완벽한 1차 플라즈마 침지
  • 여러 선반 또는 대형 부품을 처리할 수 있는 고유한 측면 벽 전극
  • 챔버 치수: 21.25“ x 15.74” x 16.5”
  • 엄격한 공정 제어를 위한 터치스크린 디스플레이가 있는 PLC 제어
  • 암호로 보호되는 공정 레시피 저장
  • 정밀한 가스 흐름 및 혼합을 위한 다중 질량 유량 컨트롤러
  • 1000와트, 13.56 RF 제너레이터 및 자동 매치 네트워크

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