Sistema de plasma de baja presión Aurora Plus
Aurora Plus es una plataforma para la deposición avanzada de recubrimientos de plasma de película fina. El Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) permite recubrimientos con opciones y propiedades tales como bajo CoF, recubrimientos hidrofílicos e hidrofóbicos.
Esto lo convierte en un proceso adecuado para numerosas áreas de aplicación, por ejemplo, en la industria del automóvil, la tecnología de dispositivos médicos y la fabricación de sistemas de sellado. El estricto control del proceso y el almacenamiento de recetas del sistema garantizan un procesamiento seguro en la producción industrial en serie, así como en aplicaciones de I+D.
- Complete primary plasma immersion for uniform treatment of complex parts
- Unique side wall electrodes to treat on multiple shelves or larger parts
- Chamber Dimensions: 21.5” x 15.74” x 16.5”
- PLC control with touchscreen display for tight process control
- Process recipe storage under password protection
- Multiple Mass Flow Controllers for precise gas flow and mixing
- 1000 watt, 13.56 RF generator and automatic match network
- Addition of thermally controlled liquid precursor delivery
- Generator pulsing option
- Heated chamber option
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