Openair-Plasma®工艺监控

Openair-Plasma® 系统的可用性高于99% ,为Plasmatreat的客户提供了最大工艺处理能力。另外, Openair-Plasma® 喷枪还可配备三重工艺监控模块,以实现高效快速的响应机制, 防止系统停机。

铸就最高工艺水准

光学监测/管理: 为确保均匀而优质的等离子体,需要对产生的等离子体进行连续的光谱监测。在单通道光学检测系统中,等离子体喷枪内集成的一个传感器会测量等离子体发出的光。然后再根据辐射光的光谱范围进行稳定的振幅估算。这一监控过程与等离子体的产生无关, 因此其结果能够作为可靠的等离子体工艺参量。

运动控制/监测: 除了等离子体强度和有效距离外, 等离子体喷枪的行程和旋转速度也是处理质量的重要评判标准。Plasmatreat系统提供的运动控制系统,能确保运行过程和生产过程的高度可靠。

控制介质供应: 要确保不同的工艺流程的可再现性,尤其是一些特殊的等离子体参数,比如温度和等离子强度的可再现性,就必须控制介质的供应。Plasmatreat提供可满足各类需求的监控单元, 其中包括微控制器控制的流量测量装置。

迎接工业4.0时代 – 面向数字化制造流程 

工序可重复、系统可靠性高、制造公差小、质量标准稳定性出色和数据驱动的自动化 – 唯有针对性地控制流程才能满足这些规范。Plasmatreat正朝着生产流程数字化转型,并基于先进的标准化技术为必备系统组件提供开放、灵活且可互操作的连接。

等离子体控制单元(PCU)专用于控制与监测等离子体喷枪。通过EtherCAT / CANopen协议传输工艺流程数据:PCU经由CANopen总线连至等离子体发生器。其他电缆则用于控制和向等离子体喷枪供能。集成式变压器(HTR)为喷枪工作提供所需的高压。

PCU控制功能

  • 工艺气体流动控制(流控模块 - FCM) 动态压力测量(压力控制模块 - PCM) 通过电流和电压控制电机速度(旋转控制模块 - RCM) 选配:等离子体功率控制

监控功能

  • 等离子体目视检查(灯光控制模块 – LCM) 等离子体功率控制/HTR输出测量(等离子体功率测量 – PPM) 工艺气体流向喷枪的控制(流控模块 – FCM) 旋转监控(旋转控制模块 – RCM) 动态压力监控(压力控制模块 – PCM)

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不妨一试:我们经验丰富的应用工程师期待与您一起找到适合您用例的最佳解决方案。在我们设备齐全的实验室中,使用等离子体技术预处理您的个性化工件并分析结果。