应用
速滑用高性能滑雪板的滑行面现今都是用烧结 UHMWPE（超高分子量聚乙烯）制成。该材料具有微气孔构成的三维蜂窝结构。烧结过程中沉积在这些空腔中的粉尘会堵塞空腔，从而减少蜡的吸收量。创新的常压等离子体工艺的作用就是将微结构中的残留物清除，改善 UHMWPE 表面的性能，使得蜡的吸收量最大化。
其理念是应用 Plasmatreat 的 Openair-Plasma® 和 PlasmaPlus® 技术来改善物理化学特性，从而提高滑雪底座的性能。项目目标是：
- 增加滑雪板底面对蜡的吸附量
- 提高滑雪板底面的坚固度，以延缓摩擦和热量对其微结构因的损坏
这项工艺的开发和试验始于 2013 年，9个月后，于 2014 年 5 月他们推出了获得技术专利的新成果。
Plasmatreat 技术的多功能性是我们的项目得以成功的一大因素。公司在等离子喷枪活化和沉积工艺方面所掌握的精深知识以及 PlasmaPlus® 技术的灵活性，使我们能够在短时间内确定最佳工艺参数。我们取得了非凡的成果；事实上，这个工艺将滑雪板板底面的吸附性能提高到惊人的程度，在使用相同的滑雪板准备方法的前提下，它可将蜡吸附量提高四到六倍。该工艺包括两个步骤：
- 表面净化和活化
- 等离子体沉积形成一个纳米保护涂层
用光学显微镜分析 UHMWRE 表面的最终结构可以看出空腔扩大并且更清洁。除此之外，沉积在表面上的薄膜还能均匀附着在聚乙烯结构上。打蜡之后的滑动试验表明，显著改善了滑动性能、摩擦阻力更低、并且明显提高了蜡在滑雪板滑动面上的附着时间。
随后的雪上测试甚至超过了实验室的结果，充分证实了使用两种等离子处理技术 Openair-Plasma® 和 PlasmaPlus® 结合运用正确的滑雪板准备技术，可以提高滑雪板的性能。2015年3月授予了 PlasmaSki 方法的专利。
合作
等离子体纳米技术部门与 Plasmatreat 的合作基于相互信任。他们的任务是开发解决方案，满足意大利公司对流程和产品创新的需求，从而帮助他们赢得新市场。由于先期合作获得了极好的结果，我们正将双方的关系发展成为紧密的伙伴关系，旨在为我们共同的客户开发量身定制的工艺。
我们能够集中各自的专业优势，将新型等离子体工艺整合到现有的生产流程之中。对等离子体所含活性粒子及其反应动力学的准确认识以及 Plasmatreat 丰富的科学和生产技术经验使得等离子体纳米技术专家们甚至能够在极短的时间内从工艺开发阶段成功进入工业试验阶段。此外，Plasmatreat（普思玛）多年来积累的丰富经验让他们有能力为应对针高度多样化的要求和应用定制出 Openair-Plasma® 和 PlasmaPlus® 技术。
