低压等离子技术在PFAS替代及其他涂层领域的适用场景

全氟和多氟烷基物质（PFAS）是一类具有防水、防油及防污特性的化学物质，被广泛应用于众多产品中。然而，这类化合物在环境中具有持久性，正日益引发严峻的环境问题。

低压等离子技术作为替代含PFAS涂层的优选方案，凭借其真空操作特性，能够对复杂三维结构实现低至纳米级的精准均匀镀膜，最终形成持久可靠的功能性涂层。

这项技术的核心优势，是凭借卓越的工艺控制，实现了产品性能的高度一致。这种技术能够创建定制化的无PFAS表面及其他功能化涂层。此外，低压等离子技术可增强镀层稳定性，并在低温环境下实现更广泛的功能涂层选择——为各类应用场景提供多功能且可靠的解决方案。

我们的等离子专家Dhia Ben Salem和Klaus Kresser将在线上研讨会中，深入解析这项技术，展示实际应用案例，并在线实时解答您的疑问。

此次会议您将深入了解到：

• 可持续性：为各行业提供无PFAS的功能化表面解决方案
• 完整性：实现整体组件均匀镀膜——包括复杂三维结构
• 高效性：低温处理工艺
• 可靠性：通过精准的工艺控制确保处理效果均匀一致
• 稳定性：形成耐久且均质的纳米级涂层

本次PlasmaTalk线上研讨会将为您带来实用见解、新颖视角，并设有实时问答环节为您答疑解惑。

鉴于参会者来自不同时区，会议时间将采用UTC协调世界时。请使用下方TimeCalc工具核对您所在地区的具体时间。

若有具体工艺问题，请提前发送至 academy@plasmatreat.com, 我们将在研讨会中现场解答。

本次会议还将提供德语版本：

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