铸就最高工艺水准

光学监测/控制:为确保均匀且高品质的等离子焰体,需要对产生的等离子焰体进行连续的光谱监测。在单通道光学检测系统中,等离子喷枪内集成的一个传感器会测量等离子发出的光。然后再根据辐射光的光谱范围进行稳定的振幅估算。这一监控过程与等离子的产生无关, 因此其结果能够作为可靠的等离子工艺参量。
运动控制/监测:除了等离子体强度和有效距离外, 等离子体喷枪的行程和旋转速度也是处理质量的重要评判标准。用於加工型材、片材或模切紙箱的系統配備了運動控制系統,可確保安全的加工順序和高生產可靠性。
控制介质供应:要确保不同的工艺流程的可再现性,尤其是一些特殊的等离子参数,比如温度和等离子强度的可再现性,就必须控制介质的供应。Plasmatreat提供可满足各类需求的监控单元,其中包括微控制器控制的流量测量装置。