真空を必要としない大気圧プラズマ処理 ― ウェハー/チップ製造に新たな可能性を拓くOpenair-Plasma®

シリコンウェハー、チップ、高性能半導体は、極めて高感度な電子コンポーネントです。これらの進歩に伴い、半導体製造プロセスとして低圧プラズマ技術も発展してきました。

 

そして現在では、大気圧環境で利用できる進化したプラズマ技術Openair-Plasma®(オープンエアープラズマ) が登場し、特に自動化の面で新たな可能性を切り拓いています。
真空を必要としないプラズマ処理は、製造工程の大幅な簡素化と効率化を実現します。

シリコンウェハーのプラズマナノ洗浄

ウェハーの製造は、半導体材料のブロックから始まります。
これをスライス (切断) してウェハーを形成し、化学的・機械的プロセスによって研磨することで、数ナノメートル単位の所定の表面粗さに仕上げます。

続く工程では、Openair-Plasma®が高効率かつシンプルな手法として用いられ、ナノ構造の超微細洗浄を実現します。
このOpenair-Plasma®洗浄により、有機汚染物や微粒子を100%除去し、不良率を大幅に低減できます。

 

確実な接合 ― 接触面のプラズマ洗浄による信頼性の高いワイヤボンディング

ウェハーをダイシングして分割したチップをリードフレームに取り付け、さらに筐体に収めてパッケージ化します。集積回路が安定して機能するためには、チップをリードフレームのリード端子に確実に接合するワイヤボンディングが不可欠です。ワイヤボンディングは一般的に超音波方式で行われ、この工程では接触面が完全に清浄であることが求められます。

 

Openair-Plasma®による乾式超微細洗浄は、有機汚染物や微粒子を確実に除去します。その結果、接合の信頼性が高まり、不良率を大幅に低減できます。

チップの回路基板への接着

電子部品は、コスト効率の高いウェーブはんだ付けプロセスによって回路基板に実装されます。最新のプロセスでは、通常鉛フリー方式が採用されています。
しかし、ウェーブはんだ付けでは高温のはんだ槽を使用するため、部品と基板との接着強度に対する要求が一層高まります。

 

Openair-Plasma®によって部品やチップの表面を活性化することで、はんだ槽での次工程に備えて部品を固定する接着剤の性能が大幅に向上することが示されています。

特長と利点

Openair-Plasma® システム

  • 繊細な構造にダメージを与えない超微細洗浄 (部品洗浄)
  • 選択的な追加処理に対応する表面機能化
  • 効率的なプロセス設計による大幅なコスト削減
  • 接合プロセスにおける不良率の低減

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